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ASML to work with major chipmakers to use latest tools for larger chips
发布时间
30 天前
2026-09-08 06:06:27 UTC
源站更新
30 天前
2026-09-08 09:56:57 UTC
首次抓取
30 天前
2026-09-08 06:15:45 UTC
荷兰芯片设备制造商 ASML 计划与主要客户合作，采用更大尺寸掩膜，使其最新 High NA EUV 光刻机能够制造与当前最大数据中心芯片同等尺寸的芯片，以推动该技术在高产量生产中的广泛应用。
ASML plans to collaborate with major customers to adopt larger masks for its latest High NA EUV tools, enabling chips as large as today's biggest data center chips and boosting high-volume production adoption.
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