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ASML Supplier Says China 15 Years Behind in Top Chipmaking Tools
发布时间
36 天前
2026-09-02 23:00:00 UTC
源站更新
36 天前
2026-09-02 23:00:00 UTC
首次抓取
36 天前
2026-09-02 23:21:26 UTC
德国蔡司集团半导体业务负责人称，中国在开发极紫外光刻机等尖端芯片制造工具方面落后约 15 年。美国限制 ASML 向中国出口最先进设备，蔡司高管认为出口管制会加速中国自主研发。
The head of Zeiss's semiconductor business said China is about 15 years behind in developing EUV lithography tools. He said export restrictions are unlikely to have a positive impact because they accelerate China's innovation.
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