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How China’s DUV Chipmaking Advances Threaten Big Tech
发布时间
72 天前
2026-07-28 17:38:33 UTC
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72 天前
2026-07-28 17:38:33 UTC
首次抓取
72 天前
2026-07-28 18:21:54 UTC
中国在光刻机领域取得突破，有望生产浸没式 DUV 光刻设备，这将对 ASML 和西方芯片制造商构成双重威胁。
China may have achieved a breakthrough in producing immersion deep ultraviolet lithography tools, a move that could threaten ASML's dominance and Western chipmakers like Nvidia.
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