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Advanced chipmaking tool arrives at New York state innovation hub
发布时间
80 天前
2026-07-21 12:02:04 UTC
源站更新
80 天前
2026-07-21 18:33:33 UTC
首次抓取
80 天前
2026-07-21 12:30:15 UTC
ASML 新一代 High NA EUV 光刻机首批部件已运抵纽约州奥尔巴尼纳米技术中心，该设备预计年底投入使用，将用于先进芯片设计与制造研发。
The first components of ASML's next-generation High NA EUV chipmaking tool have arrived at New York state's Albany NanoTech Complex for R&D on future chip design and manufacturing, with the full system expected to be operational by year-end.
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